Ultrafine Aluminium Hydroxide

Aluminium Hidroksida Ultra Halus (UFAH) ialah bahan fungsi tak organik tahap sub mikron/nanometer (formula kimia Al(OH)₃）disediakan melalui proses bersepadu "nukleasi teraruh benih+penghancuran dan pengelasan aliran udara". Saiz zarah teras dikawal dalam julat 0.1μm-2.0μm, dan jangkauan luas permukaan tertentu 8-50m². hidroksida (<5m ²/g). Aluminium hidroksida ultra halus benar-benar memecahkan titik sakit industri "pengisian tinggi=penurunan prestasi mekanikal", dan digunakan secara meluas dalam bidang mewah seperti kenderaan tenaga baharu, infrastruktur 5G, pembungkusan semikonduktor, dll. Ia merupakan bahan sokongan teras yang sangat diperlukan untuk pembuatan mewah.

Kekuatan teras

1. Kawalan tepat saiz zarah submikron: mengimbangi kecekapan dan kebolehprosesan

Menerobos kesesakan pengedaran saiz zarah yang luas (nilai Span>1.5) dalam proses tradisional, menggunakan teknologi "penggredan pintar AI+pengoptimuman struktur kristal" untuk mencapai tiga kejayaan utama:

-Penyesuaian saiz zarah: meliputi keseluruhan julat paras nanometer (D50=0.1-0.5μm), paras submikron (D50=0.5-1.0μm), dan paras halus (D50=1.0-2.0μm), dengan nilai CV kelompok ≤ 3.5%, jauh lebih baik daripada purata industri sebanyak 7.8%;

-Reka bentuk pengedaran sempit: Nilai Span ≤ 1.0, D90/D10≤2.8， Mengelakkan kecacatan pemprosesan yang disebabkan oleh penggumpalan zarah besar, mencapai keseragaman serakan sebanyak 98% dalam matriks polimer;

-Pengisian rendah dan kalis nyalaan tinggi: Produk gred nano boleh mencapai gred UL94 V-0 dengan penambahan minimum 32% dalam bahan kabel EVA, mengurangkan jumlah pengisian sebanyak 25% berbanding produk konvensional dan mengekalkan sifat mekanikal substrat dengan ketara.

2. Teknologi pengubahsuaian komposit in situ: menyelesaikan titik kesakitan keserasian antara muka

Secara inovatif membangunkan sistem pengubahsuaian komposit "silane/titanate+pelincir" untuk mencapai salutan oleofilik aluminium hidroksida ultrahalus, mencapai:

-Lekatan antara muka yang lebih baik: Sudut sentuhan air telah ditingkatkan daripada 20-30 ° asal kepada 90-115 °, kadar penyerapan lembapan ialah ≤ 0.15%, dan keserasian dengan substrat seperti PP, resin epoksi, dan getah telah dipertingkatkan sebanyak 50%;

-Pengoptimuman prestasi pemprosesan: Kadar aliran cair (MFR) meningkat sebanyak 23%, kadar sekerap penyemperitan dikurangkan kepada di bawah 0.8%, sesuai untuk pelbagai proses seperti pengacuan suntikan, penyemperitan, salutan, dll;

-Pengembangan fungsi: Kalis api yang boleh disesuaikan+kekonduksian terma tinggi (konduksi terma ≥1.2W/(m·K)), kalis api+fungsi komposit dielektrik rendah (ε≤ 3.0), sesuai untuk senario khas seperti tenaga baharu dan 5G.

3. Ketulenan tinggi dan kawalan kekotoran rendah: Sesuai untuk senario mewah dengan keperluan yang ketat

Sebagai tindak balas kepada keperluan melampau untuk kekotoran dalam bidang elektronik dan semikonduktor, proses penulenan "kerpasan kecerunan+pertukaran ion" diguna pakai:

-Kandungan utama ≥ 99.95%:Al(OH)₃ ketulenan mencapai 99.95% -99.99%, kandungan Al₂O₃ ≥ 64.5%, Fe₂O₃≤50ppm, Na₂O≤20ppm, SiO₂ppm≤ lebih tinggi kepada standard industri;

-Ciri kekonduksian rendah: kerintangan ≥ 10 ¹⁰Ω· m, kandungan ion klorida<10ppm, memenuhi keperluan penebat pembungkusan semikonduktor dan peralatan komunikasi frekuensi tinggi;

-Standard keputihan tinggi: Nilai L ≥ 95, beberapa model mewah mencapai 97 atau ke atas, sesuai untuk keperluan penampilan cangkerang perkakas rumah dan bahan hiasan bangunan.

4. Proses pengeluaran gelung tertutup hijau: selaras dengan strategi dwi karbon

Membina sistem pengeluaran "kerpasan alkali rendah + peredaran air gelung tertutup" untuk mencapai pembangunan mampan:

-Pengoptimuman penggunaan tenaga: Penggunaan tenaga komprehensif bagi setiap tan produk telah dikurangkan kepada 1.35 tan arang batu standard, penurunan 25% berbanding proses tradisional, dan pengurangan 30% dalam pelepasan karbon;

-Kitar semula sumber: Kadar penggunaan semula air sisa pengeluaran ialah ≥ 95%, dan kadar pemulihan hasil sampingan lumpur merah mencapai 72%, yang memenuhi keperluan ekonomi bulat;

-Tiada pelepasan berbahaya: Proses pengeluaran tidak mempunyai VOC atau pelepasan logam berat, dan telah lulus pensijilan tahap tertinggi sistem pengurusan alam sekitar ISO 14001.

Senario aplikasi

1. Kenderaan tenaga baharu dan bateri kuasa

-Senario aplikasi: salutan diafragma bateri kuasa, lapisan penebat pek bateri, kabel senapang pengecasan, bahagian dalam yang ringan;

-Nilai teras: Produk tahap nano telah lulus ujian resapan pelarian haba, dengan prestasi yang stabil dalam julat suhu yang luas -40 ℃~120 ℃. Penggunaan pek bateri kuasa tunggal mencapai 3.2kg, meningkat 2.1 kali ganda berbanding 2020; Model gred kekonduksian terma mempunyai kekonduksian terma ≥1.2W/(m·K), dengan berkesan mengurangkan kenaikan suhu bateri;

2. Infrastruktur 5G dan sistem elektronik dan elektrik

-Senario aplikasi: Selongsong stesen pangkalan 5G, laminat berpakaian tembaga frekuensi tinggi (substrat LTCC), kabel data, pelekat pembungkusan elektronik;

-Nilai teras: Pemalar dielektrik rendah (ε=2.8-3.0), faktor kehilangan rendah, memenuhi keperluan penghantaran frekuensi tinggi 5G, dengan kadar sferaalisasi> 90% untuk produk dengan saiz zarah ≤0.5μm, sesuai untuk keperluan ketepatan pemesinan komponen elektronik ketepatan;

3. Pembungkusan semikonduktor dan pembuatan mewah

-Senario aplikasi: Penyelesaian penggilap CMP Semikonduktor, seramik elektronik, pelekat pembungkusan LED;

-Nilai teras: 99.99% ketulenan tinggi, Fe≤30ppm、Na≤15ppm， Ion klorida<10ppm, memenuhi standard bahan semikonduktor SEMI, mencapai kerataan tahap atom dalam penggilap wafer silikon 12 inci;

4. Bangunan hijau dan produk getah

-Senario aplikasi: Salutan kalis api peringkat A, papan penebat kalis api, lantai PVC, tali pinggang penghantar getah;

-Nilai teras: keputihan tinggi (≥ 95%), ketoksikan asap rendah, mematuhi piawaian pencegahan kebakaran bangunan GB/T 2408-2021, mengurangkan pelepasan CO sebanyak 30% dalam kebakaran, dan mengekalkan fleksibiliti yang baik walaupun dengan jumlah pengisian 60% dalam produk getah.

Soalan Lazim (FAQ)

S1: Apakah perbezaan antara aluminium hidroksida ultrahalus dan hidroksida aluminium konvensional?

A: Perbezaan: ① Saiz zarah: Aluminium hidroksida ultra halus D50≤2μm, taburan saiz zarah seragam, manakala aluminium hidroksida D50 konvensional kebanyakannya melebihi 5 μm; ② Kebolehsebaran: Aluminium hidroksida ultra halus mudah tersebar tanpa penggumpalan selepas rawatan anti aglomerasi, manakala aluminium hidroksida konvensional mempunyai keterserakan yang lemah dan terdedah kepada kecacatan produk; ③ Kebolehsuaian: Aluminium hidroksida ultra halus boleh digunakan untuk produk telus, ketepatan tinggi, manakala aluminium hidroksida konvensional hanya sesuai untuk getah biasa, bahan binaan dan bidang lain.

Jika anda mencari aluminium hidroksida ultrafine, kami akan memberikan kerjasama harga terendah. Selamat datang untuk berunding dan berhubung!